我們將解釋曝光設(shè)備的測量原理。曝光設(shè)備由光源、偏光鏡、光掩模、聚光鏡、工作臺、傳送硅片的機(jī)械手等組成。

鏡頭和光掩模的設(shè)計(jì)精度高，平臺的運(yùn)行精度也很高。操作過程中，曝光目標(biāo)精確固定在載物臺上。在操作中，每次曝光時(shí)載物臺都會移動，在曝光的物體上創(chuàng)建大量圖案。

從光源發(fā)出短波長的強(qiáng)光，偏光透鏡調(diào)整光的方向，然后照射到光掩模上，光掩模是配置電路圖案的原型。穿過光掩模的光被聚光透鏡聚焦，并在曝光的目標(biāo)上描繪出非常小的電路圖案。

一旦整個曝光目標(biāo)被曝光，它就會被機(jī)器人或其他設(shè)備運(yùn)輸。根據(jù)產(chǎn)品的不同，曝光目標(biāo)會滲透到液體中，有些產(chǎn)品的設(shè)計(jì)旨在實(shí)現(xiàn)更準(zhǔn)確的曝光。